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微型PECVD系统BTF-1200C-S-PECVD

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微型PECVD系统BTF-1200C-S-PECVD

  • 详细介绍
PECVD 模式(Plasma Enhanced Chemical vapor Deposition)
 
中小型PECVD体统软件性,它包含中小型高压气管式炉,熔融石英高压气室、高压气抽气与高压气测试体统软件性、气路体统软件性、微波射频电体统软件性、货品引射体统软件性。电依据宽:0-100W可调式节式; 室内温度依据宽:100-1200度可调式节式;溅射城市宽:0-600mm可调式节式;选用依据宽:金属材质塑料聚酯贴膜,瓷器塑料聚酯贴膜等,复合材料塑料聚酯贴膜,多次滋生种种塑料聚酯贴膜等。延长职能轻松,可扩大等化合物洗涤刻蚀等职能。
 

主要特点

 
    1. 薄膜沉积速率高:采用了甚高频技术,大大的提高了薄膜的沉积速率,沉积速率可达10Å/S;
    2. 大面积均匀性高:采用了先进的多点射频馈入技术,特殊气路分布和加热技术等,使得薄膜均匀性指标达到8%;
    3. 一致性高:用半导体行业的先进设计理念,使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
    4. 工艺稳定性高:高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
    5. 选配物料喷射系统,可将原料直接喷射到反应区。
    6.zhuanli号:  (zhuanli类产品,产品防伪必究)。
 
技术参数
   
 
 

真空管式炉

炉管(guan)尺(chi)寸:

外(wai)径Φ50×700mm

级限体温:

1200℃

热度操作器:

PID自动式掌(zhang)控双向(xiang)晶闸管(人工(gong)操控硅)输(shu)🐟入输(shu)出,30段可(ke)程序设(she)计掌(zhang🔯)控器

最快的速(su)度(du)上(shang)升下降温传送速(su)度(du):

60℃

高温区:

230mm

温控区:

100mm

环(huan)境温度误差:

±1℃

电源模(mo)块:

220V220V,讨论50Hz

 

 

 

多通道流量计控制系统

标准(zhun)单位测量(liang)范围:

100,200SCC🐼M;(以(yi🌱)离氮气测(ce)定,除了上(shang)标准(zhun)规定外量限(xian)先选)

明确度:

±1.5%

做工作(zuo)压力(li)差超范(fan)围(wei):

0.1~0.5 MPa

大压(ya)力值:

3MPa

连(lian)接管款式(shi):

Φ6双卡套不锈钢(gang)板线接头(tou)

 

 

高真空系统

   &𒅌nbsp; &nb🐟sp;             

 

泵体积流量N2

33 L/S

进行压缩比:

≥1011mbar   

实验报告(gao)真空度值:

≤10-6mbar

公率使用量:

140W

运行時间:

2min

电(dian)源模(mo)块追求(qiu):

185-265V AC

射频电源

的信号频繁 :

13.56MHz±0.005%W

瓦(wa)数工(gong)作输出(chu)位(wei)置:

0-100W

非常大折(zhe)射功效:

10W


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